我校两项专利成果拟转让于武汉新硅科技潜江有限公司，根据《中华人民共和国促进科技成果转化法》若干规定【国发〔2016〕16号】及《武汉工程大学科技成果转化管理办法（试行）》【武工大科发[2021]1号】，经双方协商最终确定转让总金额为6万元整（大写：陆万元整）。目前，专利权人同意该专利成果转让。
特此公示。公示期15天（2022年3月18日—2022年4月1日）。若有异议请在公示期内如实向科学技术发展院书面反映情况。
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1.发明名称：一种快速制备超薄陶瓷片的方法
专利号：2018106888467
发明(设计)人:赵培; 吴慰
权利人：武汉工程大学
发明简介：本发明涉及一种快速制备超薄陶瓷片的方法，该方法利用激光化学气相沉积技术以相应的金属有机源作为前驱体原料，通过激光的活化作用在特定基板上沉积均匀的陶瓷层，然后通过烧蚀或研磨等手段将基板与制得的陶瓷层分离，最终得到单一、高致密的超薄特种陶瓷片。该方法不仅大幅降低了陶瓷片的烧结温度、有助于减少能耗，而且后处理程序简单、生产周期短、成本较低，在工业化生产方面具有巨大应用前景。
2.发明名称：一种化学气相沉积设备专用挡板装置
专利号：2016104163558
发明(设计)人:赵培; 苏轼; 王莹
权利人：武汉工程大学
发明简介：本发明公开了一种化学气相沉积设备专用挡板装置，包括真空转接法兰、挡板、挡板连接杆、支撑杆和手柄，真空转接法兰设置于沉积腔体的壳体上，支撑杆通过固定杆与沉积腔体连接，挡板设置于沉积腔体内，挡板与挡板连接杆一端连接，挡板连接杆的另一端横向依次穿过真空转接法兰和支架，与手柄连接，挡板连接杆通过轴承与支撑杆连接，通过前后移动手柄进而通过挡板连接杆带动挡板移动，挡板连接杆上还设有止动装置，当通过手柄带动挡板移动到合适位置时，通过止动装置对挡板连接杆止动固定。阻止沉积腔体内的源溶液蒸汽在基板上沉积，确保化学气相沉积的沉积时间为一可控的定值，减小实验误差，提高薄膜质量，该装置结构简单，操作方便，提高了工作效率。
武汉工程大学科学技术发展院
2022年3月17日
